В диски из российских коммерческих кварцевых стекол KV-типа толщиной 1 мм были имплантированы ионы W+ с энергией 200 кэВ и плотностью потока от 1015 до 21017 ионов/см2. Данные RBS свидетельствуют о гауссовом распределении ионов W при максимальной их концентрации в 80 нм от поверхности. В оптическом спектре исследованного в настоящей работе кварцевого стекла наблюдаются полосы поглощения на 710 и 1100 нм. Они могут быть приписаны, также, как и спектр ЭПР из асимметричной линии с параметрами gN =1,593 и g±=1,754, иону W5+. Данные ТЕМ указывают на образование почти сферических частиц около 3 нм в диаметре в образце, облученном потоком плотностью 1016 ионов/см2.
One-millimeter thick discs of Russian commercial silica glasses of KV type are implanted with W+ ions at an energy of 200 keV and a fluency density from 1015 to 2x1017 ions/ cm2. RBS shows a Gaussian distribution of W ions with a maximum concentration at 80 nm from the surface. In the optical spectrum of the silica glass studied in the present work, the absorption bands at 710 nm and 1100 nm are observed. They can be assigned to W ions as well as the EPR spectrum consisting of the asymmetric line with gII =1.593 and g±=1.754. TEM data indicate the formation of almost spherical particles about 3 nm in diameter for the sample implanted at 1016 ions/cm2.
The authors declare that there are no conflicts of interest present.