<?xml version="1.0" encoding="UTF-8"?>
<!DOCTYPE article PUBLIC "-//NLM//DTD JATS (Z39.96) Journal Publishing DTD v1.3 20210610//EN" "JATS-journalpublishing1-3.dtd">
<article article-type="research-article" dtd-version="1.3" xmlns:mml="http://www.w3.org/1998/Math/MathML" xmlns:xlink="http://www.w3.org/1999/xlink" xmlns:xsi="http://www.w3.org/2001/XMLSchema-instance" xml:lang="ru"><front><journal-meta><journal-id journal-id-type="publisher-id">phmath</journal-id><journal-title-group><journal-title xml:lang="ru">Вестник Государственного университета просвещения. Серия: Физика-Математика</journal-title><trans-title-group xml:lang="en"><trans-title>Bulletin of Federal State University of Education. Series: Physics and Mathematics</trans-title></trans-title-group></journal-title-group><issn pub-type="ppub">2949-5083</issn><issn pub-type="epub">2949-5067</issn><publisher><publisher-name>Federal State University of Education</publisher-name></publisher></journal-meta><article-meta><article-id custom-type="elpub" pub-id-type="custom">phmath-369</article-id><article-categories><subj-group subj-group-type="heading"><subject>Research Article</subject></subj-group><subj-group subj-group-type="section-heading" xml:lang="ru"><subject>ФИЗИКА</subject></subj-group><subj-group subj-group-type="section-heading" xml:lang="en"><subject>PHYSICS</subject></subj-group></article-categories><title-group><article-title>РАСПРЕДЕЛЕНИЕ ЭЛЕКТРИЧЕСКОГО ТОКА В ТОНКОМ МЕТАЛЛИЧЕСКОМ СЛОЕ ПОД ДЕЙСТВИЕМ ПЕРЕМЕННОГО ЭЛЕКТРИЧЕСКОГО ПОЛЯ</article-title><trans-title-group xml:lang="en"><trans-title>DISTRIBUTION OF ELECTRIC CURRENT IN THE THIN METAL LAYER UNDER THE INFLUENCE OF AN ALTERNATING ELECTRIC FIELD</trans-title></trans-title-group></title-group><contrib-group><contrib contrib-type="author" corresp="yes"><name-alternatives><name name-style="eastern" xml:lang="ru"><surname>Уткин</surname><given-names>Алексей Игоревич</given-names></name><name name-style="western" xml:lang="en"><surname>Utkin</surname><given-names>A. .</given-names></name></name-alternatives><email xlink:type="simple">aiutkin@yandex.ru</email><xref ref-type="aff" rid="aff-1"/></contrib></contrib-group><aff-alternatives id="aff-1"><aff xml:lang="ru"><institution>Московский государственный областной университет</institution><country>Россия</country></aff><aff xml:lang="en"><institution>Moscow State Regional University</institution><country>Russian Federation</country></aff></aff-alternatives><pub-date pub-type="collection"><year>2014</year></pub-date><pub-date pub-type="epub"><day>20</day><month>01</month><year>2023</year></pub-date><volume>0</volume><issue>3</issue><fpage>38</fpage><lpage>45</lpage><permissions><copyright-statement>Copyright &amp;#x00A9; Уткин А.И., 2023</copyright-statement><copyright-year>2023</copyright-year><copyright-holder xml:lang="ru">Уткин А.И.</copyright-holder><copyright-holder xml:lang="en">Utkin A...</copyright-holder><license xml:lang="ru" license-type="creative-commons-attribution" xlink:href="https://creativecommons.org/licenses/by/4.0/" xlink:type="simple"><license-p>Данная работа распространяется под лицензией Creative Commons Attribution 4.0.</license-p></license><license xml:lang="en" license-type="creative-commons-attribution" xlink:href="https://creativecommons.org/licenses/by/4.0/" xlink:type="simple"><license-p>This work is licensed under a Creative Commons Attribution 4.0 License.</license-p></license></permissions><self-uri xlink:href="https://www.physmathmgou.ru/jour/article/view/369">https://www.physmathmgou.ru/jour/article/view/369</self-uri><abstract><p>Произведён расчёт распределения электрического тока в тонком металлическом слое с учётом различных коэффициентов зеркальности его поверхностей. Также была проанализирована зависимость действительной и мнимой части функции проводимости Σ от безразмерной частоты объёмных столкновений электронов х, безразмерной частоты внешнего поля y и от безразмерного расстояния до верхней поверхности слоя ξ. Использовалось кинетическое уравнение Больцмана в приближении времени релаксации электронов.</p></abstract><trans-abstract xml:lang="en"><p>Electrical current distribution in the thin metal layer with the different reflection coefficients of its surfaces, is calculated in this article. The dependence of conductive function on the dimensionless frequency of volume electrons collisions, the dimensionless frequency of the external field and the dimensionless distance to the upper surface layer is analyzed. The kinetic equation of Boltzmann in approximation of electrons relaxation time is used.</p></trans-abstract><kwd-group xml:lang="ru"><kwd>тонкий металлический слой</kwd><kwd>коэффициент зеркальности</kwd><kwd>локальная электрическая проводимость</kwd><kwd>длина свободного пробега электронов</kwd><kwd>безразмерная частота объёмных столкновений электронов</kwd><kwd>безразмерная частота внешнего поля</kwd><kwd>безразмерное расстояние до верхней поверхности слоя</kwd><kwd>thin metal layer</kwd><kwd>the reflectivity coefficient</kwd><kwd>local electrical conductivity</kwd><kwd>length free path of electrons</kwd><kwd>the dimensionless frequency of volume electrons collisions</kwd><kwd>the dimensionless frequency of the external field</kwd><kwd>the di-mensionless distance to the upper surface layer</kwd></kwd-group></article-meta></front><back><ref-list><title>References</title><ref id="cit1"><label>1</label><citation-alternatives><mixed-citation xml:lang="ru">Fuchs K. The conductivity of thin metallic films according to the electron theory of metals. // Proc. Camb. Phil. Soc. - 1938. - V. 34 - P. 100-108.</mixed-citation><mixed-citation xml:lang="en">Fuchs K. The conductivity of thin metallic films according to the electron theory of metals. // Proc. Camb. Phil. Soc. - 1938. - V. 34 - P. 100-108.</mixed-citation></citation-alternatives></ref><ref id="cit2"><label>2</label><citation-alternatives><mixed-citation xml:lang="ru">Sondheimer E.H. The mean free path of electrons in metals // Advances in Physics. - 2001. - V. 50. № 6 - P. 499-537.</mixed-citation><mixed-citation xml:lang="en">Sondheimer E.H. The mean free path of electrons in metals // Advances in Physics. - 2001. - V. 50. № 6 - P. 499-537.</mixed-citation></citation-alternatives></ref><ref id="cit3"><label>3</label><citation-alternatives><mixed-citation xml:lang="ru">Sun Tik, Yao Bo, Warren Andrew P., Kumar Vineet, Roberts Scott, Barmak Katayun, Coffey Kevin R. Classical size effect in oxide-encapsulated Cu thin films: Impact of grain boundaries versus surfaces on resistivity. // J. Vac. Sci. Technol. A. - 2008. - № 26 - P. 605-609.</mixed-citation><mixed-citation xml:lang="en">Sun Tik, Yao Bo, Warren Andrew P., Kumar Vineet, Roberts Scott, Barmak Katayun, Coffey Kevin R. Classical size effect in oxide-encapsulated Cu thin films: Impact of grain boundaries versus surfaces on resistivity. // J. Vac. Sci. Technol. A. - 2008. - № 26 - P. 605-609.</mixed-citation></citation-alternatives></ref><ref id="cit4"><label>4</label><citation-alternatives><mixed-citation xml:lang="ru">Абелес Ф. Оптические свойства металлических пленок. Физика тонких пленок / Под ред. М.К. Франкомба и Р.У. Гофмана. - М.: Мир, 1973. - Том 2. - 392 с.</mixed-citation><mixed-citation xml:lang="en">Абелес Ф. Оптические свойства металлических пленок. Физика тонких пленок / Под ред. М.К. Франкомба и Р.У. Гофмана. - М.: Мир, 1973. - Том 2. - 392 с.</mixed-citation></citation-alternatives></ref><ref id="cit5"><label>5</label><citation-alternatives><mixed-citation xml:lang="ru">Абрикосов А.А. Основы теории металлов: Учеб. руководство. -М.: Наука, 1987. - С. 41.</mixed-citation><mixed-citation xml:lang="en">Абрикосов А.А. Основы теории металлов: Учеб. руководство. -М.: Наука, 1987. - С. 41.</mixed-citation></citation-alternatives></ref><ref id="cit6"><label>6</label><citation-alternatives><mixed-citation xml:lang="ru">Бабич А.В., Погосов В.В. Квантовая металлическая пленка в диэлектрическом окружении. // Физика Твёрдого Тела. - 2013. -Том 55. Вып. 1 - С. 177-185.</mixed-citation><mixed-citation xml:lang="en">Бабич А.В., Погосов В.В. Квантовая металлическая пленка в диэлектрическом окружении. // Физика Твёрдого Тела. - 2013. -Том 55. Вып. 1 - С. 177-185.</mixed-citation></citation-alternatives></ref><ref id="cit7"><label>7</label><citation-alternatives><mixed-citation xml:lang="ru">Завитаев Э.В., Русаков О.В., Юшканов А.А. Скин-эффект в тонкой цилиндрической проволоке из металла. // Физика Твёрдого Тела. - 2012. - Том 54. Вып. 6 - С. 1041-1047.</mixed-citation><mixed-citation xml:lang="en">Завитаев Э.В., Русаков О.В., Юшканов А.А. Скин-эффект в тонкой цилиндрической проволоке из металла. // Физика Твёрдого Тела. - 2012. - Том 54. Вып. 6 - С. 1041-1047.</mixed-citation></citation-alternatives></ref><ref id="cit8"><label>8</label><citation-alternatives><mixed-citation xml:lang="ru">Каминский В.В., Степанов Н.Н., Казанин М.М., Молодых А.А., Соловьев С.М. Электропроводность и зонная структура тонких поликристаллических пленок EuS // Физика Твёрдого Тела. -2013. - Том 55. Вып. 5 - С. 991-994.</mixed-citation><mixed-citation xml:lang="en">Каминский В.В., Степанов Н.Н., Казанин М.М., Молодых А.А., Соловьев С.М. Электропроводность и зонная структура тонких поликристаллических пленок EuS // Физика Твёрдого Тела. -2013. - Том 55. Вып. 5 - С. 991-994.</mixed-citation></citation-alternatives></ref><ref id="cit9"><label>9</label><citation-alternatives><mixed-citation xml:lang="ru">Латышев А.В., Юшканов А.А. Взаимодействие электромагнитной H-волны с тонкой металлической плёнкой. // Микроэлектроника. - 2012. - Том 41. № 1. - С. 30-35.</mixed-citation><mixed-citation xml:lang="en">Латышев А.В., Юшканов А.А. Взаимодействие электромагнитной H-волны с тонкой металлической плёнкой. // Микроэлектроника. - 2012. - Том 41. № 1. - С. 30-35.</mixed-citation></citation-alternatives></ref><ref id="cit10"><label>10</label><citation-alternatives><mixed-citation xml:lang="ru">Майссел Л., Глэнк Р. Технология тонких пленок. Справочник. Том 1. - М.: Мир, 1977. - 768 с</mixed-citation><mixed-citation xml:lang="en">Майссел Л., Глэнк Р. Технология тонких пленок. Справочник. Том 1. - М.: Мир, 1977. - 768 с</mixed-citation></citation-alternatives></ref><ref id="cit11"><label>11</label><citation-alternatives><mixed-citation xml:lang="ru">Суху Р. Магнитные тонкие пленки. - М.: Мир, 1967. - 423 с.</mixed-citation><mixed-citation xml:lang="en">Суху Р. Магнитные тонкие пленки. - М.: Мир, 1967. - 423 с.</mixed-citation></citation-alternatives></ref><ref id="cit12"><label>12</label><citation-alternatives><mixed-citation xml:lang="ru">Хасс Г. Физика тонких плёнок. Том 2. - М.: Мир, 1967. - 343 с</mixed-citation><mixed-citation xml:lang="en">Хасс Г. Физика тонких плёнок. Том 2. - М.: Мир, 1967. - 343 с</mixed-citation></citation-alternatives></ref><ref id="cit13"><label>13</label><citation-alternatives><mixed-citation xml:lang="ru">Чопра К.Л. Электрические явления в тонких пленках / Под. ред. Т.Д. Шермергора. Пер. с англ. А.Ф. Волкова, Е.И. Гиваргизова и др. - М.: Мир, 1972. - 432 с.</mixed-citation><mixed-citation xml:lang="en">Чопра К.Л. Электрические явления в тонких пленках / Под. ред. Т.Д. Шермергора. Пер. с англ. А.Ф. Волкова, Е.И. Гиваргизова и др. - М.: Мир, 1972. - 432 с.</mixed-citation></citation-alternatives></ref></ref-list><fn-group><fn fn-type="conflict"><p>The authors declare that there are no conflicts of interest present.</p></fn></fn-group></back></article>
